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          微電子芯片工業的廢水的處理方法?

          來源:本站

            微電子芯片是一種將某個子系統或電子功能部件集成于芯片中,從本質上來看微電子芯片的核心在于集成電路,它是在各類半導體器件不斷發展過程中所形成。

            半導體微電子芯片在制造過程中,需通過一系列的光刻、刻蝕、沉積、離子注入、研磨、清洗等工藝形成具有各種功能的半導體芯片,在形成終端產品前還需進行封裝和電性測試,在整個過程中將會產生大量的工業廢水,下面了解一下關于:微電子芯片工業的廢水的處理方法
           

          芯片工業廢水,廢水處理方法

            宏森環保處理微電子芯片工業廢水采用間歇式活性污泥法、曝氣生物濾池或者是生物接觸氧化法,微電子芯片工業廢水處理工藝流程:

            1、廢水的數值PH值為4~6狀態下,使用片狀石灰鈣固定塊,孔徑為0.3-0.5,作為吸附物的載體,并在上述片狀石灰鈣固定塊覆蓋固定網;

            2、在池內加入中和劑和混凝劑,再次測試PH值如果為達到4,將輔助混凝劑導入池內,再導入冷凝效應器中,完成混凝后以厭氧狀態將其導出;

            3、進行快速凝聚反應,其中輔凝劑加入后靜置2小時;

            4、將廢水噴射到蒸發器的中進行蒸發處理,廢水全部脫水為氣態,蒸發時間為12~16h,蒸發溫度為180~220℃;

            5、導入蒸發器中得廢水濃度為允許上限PH在4,一旦達到停止繼續放入廢水;

            6、廢氣導入冷凝塔,噴淋霧狀中和劑,中和劑溫度在10℃~12℃;

            7、完成冷凝,剩余的廢氣進入等離子反應器中進行電離處理;

            8、冷凝塔抽取的反應水,導入最終反應池中,導入廢水處理劑,該廢水處理劑包括凈水劑聚合氯化鋁共聚物和芬頓試劑;以廢水處理劑的總重量為基準,所述聚合氯化鋁共聚物共聚物的含量為50-70wt%;

            目前市場上有很多的水處理工藝是屬于單一處理的,單一處理常常導致過濾物質很快堵塞的問題,采用以上的水處理工藝可減少該問題的出現。
           

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